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    相比之前的工🚻😨🃻艺,如14纳米或10纳米,7☥🁤🇳纳米及以下的芯片使用的设计、光刻、材料等各方面都有一个重大的转折点🌀🟎。

    不仅仅是🌕⚧📰可以在同样大小的芯片上容纳更多的晶体管,提供更强的计算和处理能力,降低功耗和热量的产生,提高电池续航时间和设备的可靠性等等。

    七纳米及以下的芯🔭🃵片在设计🞝材料、🄘♠工艺等各方面都有巨大的改变。

    比如在芯片的水🚑💮平阵列中采用环栅(GAA)纳米线,在7纳米这个节点时,就不可避免要采用隧道FET⛀和III-V族元素沟道材料和垂💹直纳米线来完善。

    而7纳米以上的工艺则不需要这些。

    说起来,芯片的发展和设🛼⚃计制造,其实就像是☥🁤🇳一栋楼的楼梯。

    从高层逐渐🛟🛟往下走,每下降一点就走下一个台阶,就意味着解决一个问题。

    而到了28纳米🚑💮、14纳米、7纳米、5纳米、3纳米、2纳米这些楼层,就意味着你到了对应楼层的转折处。

    能支撑你往下继续走☌的,🛼⚃不仅仅是某一个问题的解决,而是某一系列,甚至更多的问题📍解决。

    光源、材料🛟、ED🔭🃵A、设计等等各🄘♠方面,全都要突破才能继续往下沉。

    比如光源,不同的光波长不同,🕤能够进行曝光尺度也不同,而在芯片领域,随着微电子制造工艺的不断进步,芯片晶体管的尺寸越来越小,对器件结构的要求越来越高,就需要更高分辨率和更精细的曝光图案。

    稍微关注🌕⚧📰一点这块的人,目前市面上的光刻机大体上分为DUV和EUV。

    DUV是目前比较成熟的方案,现阶段最高采用193nm🇚🙆波🆼🔹🅣长的深紫外光源,被广泛应用在7nm以及7nm以前的工艺里。

    而🂰💜💩伴随着工艺的继续微缩,DUV已经力不从心,就需要使用极紫外光光源的EUV设备了。

    所以徐川🌕⚧📰才对这位丁蔀🊰🔂♚长所说的7纳米这么惊讶🙧。

    因为⛶🞽🙥按照他的了解,老实说这的确🄘♠不是华国现在🙧就做出来了的东西。

    虽然丁☦🁩🈡经国说还有难题未突破,但能这么说,那就肯定只差🇚🙆最后一🞀点点了。

    徐川惊讶的是,国家这些年暗🞂地里瞒着米国等西方国家搞了不少的动作啊。

    不愧是兔子,狡兔三窟,犹有过之。

    丁经国笑了笑,道:“🊰🔂♚说起来,这还得多感谢徐院士您。”

    “我?”徐川好奇的看了他一眼。